无需EUV光刻机,7nm芯片传来喜讯,5nm芯片展开技术攻关

光刻是芯片制造中最关键的技术,光刻工艺与芯片中晶体管的尺寸与性能直接相关。光刻机的精度,限制了芯片的最小尺寸。

目前,生产7nm及以下制程芯片,需要依赖光源波长为13.5nm的EUV光刻机。ASML是唯一能生产EUV光刻机的企业。

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然而,受《瓦森纳协定》的限制,ASML进入中国市场已有30多年,中国大陆却始终没有买来一台EUV光刻机。这限制了中国芯片制造业的发展。

即便如此,中芯国际依然没有放弃对更先进制程芯片的攻克。在2019年末,中芯国际实现了14nm芯片的量产。

无需EUV光刻机,7nm芯片传来喜讯,5nm芯片展开技术攻关

而据中芯国际联席CEO梁孟松透露,中芯国际7nm技术已经完成开发,将在2020年4月份进入风险量产。在近日,中芯国际又传出了新消息。

7nm芯片迎来突破

日前,中芯国际12英寸“SN1项目”曝光,这是其14nm及以下工艺研发与量产的主要承载平台,将推动中芯国际早日实现7nm制程。

而且,中芯国际的7nm并不需要EUV光刻机。

如此一来,中国芯片制造业将向前迈进一大步,实现高端芯片自给自足。

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据悉,中芯国际SN1项目将耗资90.59亿美元,仅购买与安装生产设备便要73.3亿美元。

按照计划,中芯南方将负责这一项目,计划产能为3.5万片晶圆/月。

5nm芯片展开技术攻关

在更先进的5nm芯片上,中芯国际早已开始布局,并取得了一定的成果。

无需EUV光刻机,7nm芯片传来喜讯,5nm芯片展开技术攻关

在前段时间梁孟松辞职风波中,据网传梁孟松辞职信透露,中芯国际5nm和3nm的最关键、也是最艰巨的8大项技术也已经有序展开。

等EUV光刻机到来之后,中芯国际便可全力开发。这无疑是一个振奋人心的好消息。

无需EUV光刻机,7nm芯片传来喜讯,5nm芯片展开技术攻关

在中芯国际的带领下,国产芯片迎来突围,离着2025年芯片自给率70%的目标越来越近。

芯片制造困境

但是,EUV光刻机是中芯国际攻克5nm,必不可少的关键设备。目前,ASML已对可生产7nm芯片的DUV光刻机松口,但对于EUV光刻机却丝毫没有回旋的余地。

EUV光刻机短缺,仍是挡在中国芯片路上的巨大拦路石。光刻机研制难度高,是半导体皇冠上的明珠。

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一台光刻机的零部件高达10万个,其中超90%的零部件,都是ASML都依赖于供应商。也就是说,中国想要研究并制造出一台EUV光刻机难度极大,无法帮中芯国际缓解眼下的危机。

在这一情况下,中芯国际将如何应对,就让我们拭目以待。

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